Sputtering Target

Miri ta 'Sputtering Rotary taż-Żirkonju

Miri ta 'Sputtering rotanti taż-żirkonju Deskrizzjoni Il-miri ta' sputtering rotanti taż-żirkonju huma magħmula minn materjal taż-żirkonju ta 'purità għolja wara serje ta' pproċessar, b'daqs u forma

Żid mal-Inkjesta
Żirkonju 702 Mira Planari

Żirkonju 702 Deskrizzjoni tal-Mira Planari Iż-żirkonju huwa element metalliku b'reżistenza għall-korrużjoni eċċellenti, punt ta 'tidwib għoli u proprjetajiet mekkaniċi tajbin, li jagħmilha utli

Żid mal-Inkjesta
Żirkonju 702 Round Target

Żirkonju 702 Round Target Deskrizzjoni Iż-żirkonju huwa metall ta 'transizzjoni qawwi griż-abjad lustrous użat ħafna fl-industrija nukleari u fl-ajruspazju. Żirkonju 702 Round Target ħafna drabi huwa

Żid mal-Inkjesta
99.95% Miri ta 'Sputter taż-Żirkonju

99.95% Żirkonju Sputter Miri Deskrizzjoni Magnetron sputtering huwa metodu ġdid ta 'kisi tal-fwar fiżiku, li juża sistema ta' gun elettron biex jarmu elettroni u jiffoka fuq il-materjal li għandu

Żid mal-Inkjesta
Miri tat-titanju ta 'purità għolja

Miri tat-Titanju ta 'Purità Għolja Deskrizzjoni It-titanju huwa metall refrattarju paramanjetiku b'ebusija qawwija u saħħa għolja, speċjalment f'ambjent ħieles mill-ossiġnu. Għall-miri, iktar ma tkun

Żid mal-Inkjesta
Purità Għolja Kromju Sputter Mira

Il-Kromju ta 'Purità Għolja Sputter Target Deskrizzjoni Il-Kromju huwa metall ta' tranżizzjoni griż tal-azzar, tleqq, iebes u fraġli. Il-mira ta 'Sputter tal-Kromju ta' Purità Għolja hija ġeneralment

Żid mal-Inkjesta
99.5% Miri tal-Boron Sputtering

99.5% Boron Sputtering Targets Deskrizzjoni Il-mira tal-kisi hija sors ta 'sputtering li jifforma diversi films funzjonali fuq is-sottostrat billi sputtering taħt kundizzjonijiet ta' proċess xierqa

Żid mal-Inkjesta
Miri ta' Sputtering tal-Molibdenu (Mo).

Molibdenu (Mo) Sputtering Targets Deskrizzjoni Bħala teknoloġija avvanzata ta 'preparazzjoni ta' materjal ta 'film irqiq, sputtering għandu żewġ karatteristiċi: veloċità għolja u temperatura

Żid mal-Inkjesta
Mira tal-metall tat-titanju

It-Titanju Metal Target Deskrizzjoni Titanium Metal Target huwa manifatturat prinċipalment bil-metodu tat-tidwib tat-tkessiħ tar-raġġ tal-elettroni. Għandu purità għolja, saħħa speċifika għolja,

Żid mal-Inkjesta
Miri ta 'Sputtering tal-metall tan-nikil

Miri ta 'Sputtering tal-metall tan-nikil Deskrizzjoni Fl-industrija, in-nikil jintuża komunement fil-preparazzjoni tal-liga, il-produzzjoni tal-batteriji, u bħala katalizzatur. Speċjalment fil-qasam

Żid mal-Inkjesta
Miri tal-Kromju Metall Sputter

Miri tal-Kromju Metall Sputter Deskrizzjoni Il-Kromju għandu punt ta 'tidwib għoli u reżistenza tajba għall-ossidazzjoni, li jippermetti li l-mira tal-kromju tibqa' stabbli f'ambjenti ta 'temperatura

Żid mal-Inkjesta
TiAl Titanju Liga Sputtering Mira

TiAl Titanium Alloy Sputtering Target Deskrizzjoni Il-mira sputtering tirreferi għall-materja prima użata fil-proċess ta 'depożizzjoni ta' sputtering. Tirreferi għall-proċess li fih l-atomi

Żid mal-Inkjesta

Aħna magħrufa sew bħala wieħed mill-manifatturi u l-fornituri ewlenin tal-mira ta 'sputtering fiċ-Ċina. Jekk int se tixtri mira ta 'sputtering ta' kwalità għolja bi prezz kompetittiv, merħba tikseb kwotazzjoni mill-fabbrika tagħna. Ukoll, servizz personalizzat huwa disponibbli.

(0/10)