Sputtering Target

Miri ta' Sputtering Ċirkolari tat-Tungstenu

Miri ta 'Sputtering Ċirkolari tat-Tungstenu Deskrizzjoni It-tungstenu, bħala materjal fil-mira użat b'mod komuni, għandu rwol ewlieni fit-tubi tar-raġġi-X. It-temperatura operattiva tal-katodu hija

Żid mal-Inkjesta
Miri Tondi tat-Tungstenu ta' Purità Għolja

Miri Tondi tat-Tungstenu ta 'Purità Għolja Deskrizzjoni Il-Miri Tondi tat-Tungstenu ta' Purità Għolja huma l-materjali fil-mira l-aktar użati b'mod komuni meta mqabbla mat-twieqi tal-berillju.

Żid mal-Inkjesta
PVD 4N Nikil Sputtering Mira

PVD 4N Nickel Sputtering Target Deskrizzjoni PVD 4N Nickel Sputtering Target hija mira magħmula minn materjal tan-nikil ta 'purità għolja għat-teknoloġija PVD, li tippermetti l-kisba ta' films irqaq

Żid mal-Inkjesta
Miri Tondi tal-Aluminju tat-titanju

Miri tondi ta 'l-aluminju tat-titanju Deskrizzjoni Il-miri tondi ta' l-aluminju tat-titanju huma miri tal-metall użati b'mod komuni għal kisi bil-vakwu. Jistgħu jinkisbu proprjetajiet differenti

Żid mal-Inkjesta
Miri tal-Boron ta' Purità Għolja

Miri tal-Boron ta 'Purità Għolja Karatteristiċi u Applikazzjoni Il-mira tal-kisi hija sors ta' sputtering li jifforma diversi films funzjonali fuq is-sottostrat permezz ta 'sputtering ta' magnetron,

Żid mal-Inkjesta
99.99% mira tonda tan-nikil

99.99% Nickel Round Deskrizzjoni fil-Mira ta 'Sputtering Target tirreferi għall-materja prima użata fil-proċess ta' depożizzjoni sputtering. Huwa jirreferi għall-proċess li fih l-atomi jiġu mkeċċi

Żid mal-Inkjesta
Mira tal-metall tan-nikil pur

Deskrizzjoni tal-mira tal-metall tan-nikil pur In-nikil huwa metall abjad tal-fidda bi proprjetajiet manjetiċi u plastiċità tajba, prinċipalment użat f'ligi (bħal azzar tan-nikil u fidda tan-nikil) u

Żid mal-Inkjesta
Nikil Ni Sputtering Mira

Nikil Ni Sputtering Mira Karatteristiċi & Applikazzjoni In-nikil huwa element metalliku abjad fidda b'duttilità tajba, toughness u punt ta 'tidwib għoli. Fl-industrija, in-nikil huwa komunement użat

Żid mal-Inkjesta
99.99% Nikil Sputtering Miri

99.99% Nikil Sputtering Targets Deskrizzjoni Il-materjal fil-mira huwa l-materjal użat bħala s-sors ta 'sputtering jew evaporazzjoni fil-proċess ta' depożizzjoni fiżika tal-fwar (PVD) jew

Żid mal-Inkjesta
Purità Għolja 4N Nikil Sputter Mira

Purità Għolja 4N Nikil Sputter Target Deskrizzjoni Purità Għolja 4N Nikil Sputter Target hija magħmula minn materjal tan-nikil ta 'purità għolja wara metallurġija tat-trab u ippolixxjar tal-forġa.

Żid mal-Inkjesta
Mira tal-Kromju Rotary Sputter

Il-Kromju Rotary Sputter Target Deskrizzjoni Il-Kromju għandu reżistenza tajba għall-ossidazzjoni u reżistenza għall-korrużjoni, u jista 'jifforma film ta' ossidu stabbli fl-ambjent naturali biex

Żid mal-Inkjesta
Żirkonju 702 Round Sputtering Mira

Żirkonju 702 Round Sputtering Target Deskrizzjoni Id-depożizzjoni ta 'film irqiq (kisi) hija l-proċess ta' formazzjoni u depożitu ta 'kisi ta' film irqiq fuq materjali ta 'sottostrat li jistgħu

Żid mal-Inkjesta

Aħna magħrufa sew bħala wieħed mill-manifatturi u l-fornituri ewlenin tal-mira ta 'sputtering fiċ-Ċina. Jekk int se tixtri mira ta 'sputtering ta' kwalità għolja bi prezz kompetittiv, merħba tikseb kwotazzjoni mill-fabbrika tagħna. Ukoll, servizz personalizzat huwa disponibbli.

(0/10)