Metall Sputtering Mira

Miri tondi tal-liga tat-titanju tal-kromju

It-Titanju Kromju Alloy Round Targets jistgħu jintużaw biex jagħmlu substrati jew kisi tal-wiċċ, u jistgħu jintużaw fil-qasam ta 'skieken mekkaniċi, dekorazzjoni ta' karozzi u muturi, qoxra

Żid mal-Inkjesta
Titanju Kromju Planar Target

Titanium Chromium Planar Target huwa adattat ħafna għall-sputtering ta 'kisjiet reżistenti għall-korrużjoni u reżistenti għall-ilbies, li jistgħu jipproteġu tagħmir li jaħdem f'ambjenti kimiċi

Żid mal-Inkjesta
Miri ta 'Sputter ta' Aluminju tat-titanju

Titanium Aluminum Sputter Targets għandu l-karatteristiċi eċċellenti ta 'titanju tal-metall u aluminju tal-metall, bħal duttilità għolja, reżistenza għolja għall-ilbies, konduttività elettrika u

Żid mal-Inkjesta
Miri tat-titanju-aluminju

Il-Miri tat-Titanju-Aluminju jistgħu jtejbu l-ebusija u l-ħajja tas-servizz tal-għodod tal-qtugħ, u jintużaw ħafna f'kisi tal-għodda tal-ħardwer, kisjiet dekorattivi, kisjiet tal-wiri ċatt,

Żid mal-Inkjesta
Titanju Ti Sputtering Target

Titanium Ti Sputtering Target ħafna drabi jintuża għal depożizzjoni sputtering ta 'film tat-titanju pur jew depożizzjoni sputtering reattiva ta' film TiN, prinċipalment użat bħala saff ta 'barriera

Żid mal-Inkjesta
99.99 fil-mija Pure Titanium Targets

99.99 fil-mija Pure Titanium Targets mhux biss għandhom il-vantaġġi ta 'purità għolja, reżistenza tajba għall-ilbies, ħajja twila ta' servizz u kwalità għolja ta 'kisi, iżda jinkludu wkoll

Żid mal-Inkjesta
Miri ta 'Sputtering tat-titanju-silikon

Miri ta 'Sputtering tat-Titanju-Silicon Deskrizzjoni Il-Miri ta' Sputtering tat-Titanju-Silicon jistgħu jipprovdu saffi ta 'materjal iebes tan-nitrur bi proprjetajiet eċċellenti, minħabba li

Żid mal-Inkjesta
Mira tal-Liga tal-Kromju tat-titanju

Introduzzjoni tal-Prodott tal-Mira tal-Liga tal-Kromju tat-Titanju: It-titanju huwa materjal b'saħħtu użat ħafna f'diversi oqsma bħal arloġġi, impjanti bijomediċi, drill bits, u laptops. Il-kromju,

Żid mal-Inkjesta
Titanju Kromju Round Target

Titanium Chromium Round Target Deskrizzjoni Titanium Chromium Round Target fih il-proprjetajiet eċċellenti ta 'titanju u kromju, bħal saħħa għolja, piż ħafif, bijokompatibilità tajba, mhux manjetiċi,

Żid mal-Inkjesta
Purità Għolja Żirkonju Planar Sputtering Mira

Żirkonju ta 'Purità Għolja Planar Sputtering Target Introduzzjoni Iż-żirkonju huwa metall griż tal-fidda b'reżistenza eċċellenti għall-korrużjoni. Jista 'jifforma film ta' ossidu dens fuq il-wiċċ, li

Żid mal-Inkjesta
Target Planari taż-żirkonju

Introduzzjoni tal-Prodott Ta 'Zirconju Planar Target: Żirkonju Planar Target huwa manifatturat permezz ta' ippressar isostatiku sħun avvanzat (HIP) u proċess tal-metallurġija tat-trab, li għandu

Żid mal-Inkjesta
Titanju Silicon Sputter Round Target

Titanju Silicon Sputter Round Target Features & Applikazzjoni Bħala materjal essenzjali għall-proċess ta 'sputtering (proċess ta' kisi), il-miri ta 'sputtering tal-metall huma ġeneralment magħmula

Żid mal-Inkjesta

Aħna magħrufa sew bħala wieħed mill-manifatturi u l-fornituri ewlenin tal-mira tal-metall sputtering fiċ-Ċina. Jekk int se tixtri mira ta 'sputtering tal-metall ta' kwalità għolja bi prezz kompetittiv, merħba tikseb kwotazzjoni mill-fabbrika tagħna. Ukoll, servizz personalizzat huwa disponibbli.

(0/10)