Metall Sputtering Mira

Purità Għolja Kromju Sputter Mira

Il-Kromju ta 'Purità Għolja Sputter Target Deskrizzjoni Il-Kromju huwa metall ta' tranżizzjoni griż tal-azzar, tleqq, iebes u fraġli. Il-mira ta 'Sputter tal-Kromju ta' Purità Għolja hija ġeneralment

Żid mal-Inkjesta
99.5% Miri tal-Boron Sputtering

99.5% Boron Sputtering Targets Deskrizzjoni Il-mira tal-kisi hija sors ta 'sputtering li jifforma diversi films funzjonali fuq is-sottostrat billi sputtering taħt kundizzjonijiet ta' proċess xierqa

Żid mal-Inkjesta
Miri ta' Sputtering tal-Molibdenu (Mo).

Molibdenu (Mo) Sputtering Targets Deskrizzjoni Bħala teknoloġija avvanzata ta 'preparazzjoni ta' materjal ta 'film irqiq, sputtering għandu żewġ karatteristiċi: veloċità għolja u temperatura

Żid mal-Inkjesta
Mira tal-metall tat-titanju

It-Titanju Metal Target Deskrizzjoni Titanium Metal Target huwa manifatturat prinċipalment bil-metodu tat-tidwib tat-tkessiħ tar-raġġ tal-elettroni. Għandu purità għolja, saħħa speċifika għolja,

Żid mal-Inkjesta
Miri ta 'Sputtering tal-metall tan-nikil

Miri ta 'Sputtering tal-metall tan-nikil Deskrizzjoni Fl-industrija, in-nikil jintuża komunement fil-preparazzjoni tal-liga, il-produzzjoni tal-batteriji, u bħala katalizzatur. Speċjalment fil-qasam

Żid mal-Inkjesta
Miri tal-Kromju Metall Sputter

Miri tal-Kromju Metall Sputter Deskrizzjoni Il-Kromju għandu punt ta 'tidwib għoli u reżistenza tajba għall-ossidazzjoni, li jippermetti li l-mira tal-kromju tibqa' stabbli f'ambjenti ta 'temperatura

Żid mal-Inkjesta
TiAl Titanju Liga Sputtering Mira

TiAl Titanium Alloy Sputtering Target Deskrizzjoni Il-mira sputtering tirreferi għall-materja prima użata fil-proċess ta 'depożizzjoni ta' sputtering. Tirreferi għall-proċess li fih l-atomi

Żid mal-Inkjesta
Miri PVD ta 'liga ta' l-aluminju tat-titanju

It-Titanju Aluminum Alloy PVD Targets Deskrizzjoni Il-mira tal-kisi hija sors ta 'sputtering li jifforma diversi films funzjonali fuq is-sottostrat permezz ta' sputtering taħt kundizzjonijiet ta

Żid mal-Inkjesta
Boron Round Sputter Mira

Boron Round Sputter Target Deskrizzjoni Boron Round Sputter Target huwa materjal użat għall-preparazzjoni tal-film. Huwa magħmul minn materjali boride permezz tal-metallurġija tat-trab (ippressar

Żid mal-Inkjesta
Mira ta' Sputtering Planar tal-Kromju

Il-Kromju Planar Sputtering Target Features & Applikazzjoni L-element oriġinali tal-kromju jeħtieġ li jiġi ppurifikat b'serje ta 'proċessi bħal tidwib f'temperatura għolja, raffinar u elettroliżi, u

Żid mal-Inkjesta
99.95 fil-mija tal-Kromju Sputtering Target

99.95 fil-mija tal-Kromju Sputtering Target Karatteristiċi & Applikazzjoni 99.95 fil-mija tal-Kromju Sputtering Target hija mira tal-metall ta 'purità għolja, li tista' tintuża biex tiksi diversi

Żid mal-Inkjesta
Miri Tondi tal-Kromju Sputtering

Il-Kromju Sputtering Round Targets Deskrizzjoni Il-metall tal-kromju jintuża prinċipalment bħala materja prima għall-produzzjoni ta 'diversi ligi. Il-produzzjoni industrijali tal-metall tal-kromju

Żid mal-Inkjesta

Aħna magħrufa sew bħala wieħed mill-manifatturi u l-fornituri ewlenin tal-mira tal-metall sputtering fiċ-Ċina. Jekk int se tixtri mira ta 'sputtering tal-metall ta' kwalità għolja bi prezz kompetittiv, merħba tikseb kwotazzjoni mill-fabbrika tagħna. Ukoll, servizz personalizzat huwa disponibbli.

(0/10)