Tungstenu Round Sputtering Mira

Tungstenu Round Sputtering Target Deskrizzjoni & Applikazzjoni

Il-mira hija waħda mill-materjali indispensabbli għat-teknoloġija tal-magnetron sputtering, u l-prestazzjoni tal-mira ftit jew wisq tiddetermina l-prestazzjoni u l-kwalità tal-film depożitat. Tungstenu Round Sputtering Target għandu l-ogħla punt ta 'tidwib fost l-elementi kollha tal-metall, u għandu l-vantaġġi ta' densità għolja, purità għolja, struttura interna uniformi, stabbiltà tajba fit-temperatura għolja, reżistenza qawwija għall-migrazzjoni tal-elettroni, reżistenza qawwija għall-korrużjoni u ħajja twila ta 'servizz. Tungstenu Round Sputtering Target huwa ġeneralment prodott permezz ta 'tidwib bil-vakwu u ippressar bis-sħana, segwit minn rolling, qtugħ u ttemprar. Huwa l-aktar użat fl-industrija tal-elettronika u l-industrija tal-enerġija solari. Miri tat-Tungstenu Round Sputtering prodotti mill-kumpanija tagħna jistgħu jintużaw ukoll fl-industriji ta 'sputtering tal-plażma, aerospazjali, petrokimiċi, kisi tal-ħġieġ semikonduttur, kostruzzjoni u industriji tal-ispazju tal-ħażna ta' informazzjoni ottika.

Tungstenu Round Sputtering MiraSpeċifikazzjonijiet:

Stampi tal-Mira tat-Tungstenu Round Sputtering:

It-tags Popolari: tungstenu round sputtering mira, fornituri, manifatturi, fabbrika, personalizzati, bl-ingrossa, prezz, kwotazzjoni, għall-bejgħ